 |
 |
 导航:老古开发网首页→文章索引→文章分类→半导体→[IMEC宣布获得首台EUV光刻设备]
|
| | -文章搜索 - 最新文章 - | |
IMEC宣布获得首台EUV光刻设备 |
| 发布时间:2006年9月17日 点击次数:293 |
| 来源: 作者: |
独立研究机构Interuniversities Microelectronics Center(IMEC)近期表示,已经获得了全球第一套超远紫外(EUV)光刻设备。 IMEC宣布已于8月16日收到来自ASML Holding NV的超远紫外(EUV) Alpha Demo Tool(ADT)设备,收到之后,该设备在ASML研发人员的协助下进行了全速晶圆片运行。 该EUV设备拥有6500万个部件,被认为是IMEC先进光刻领域的重要项目。同时,IMEC还同步进行基于ASML XT 1700i的浸入式光刻、双次图形光刻等。 |
|
|
|
 欢迎进入老古论坛进行讨论
[半导体] 相关文章:  Chartered、IBM、Infineon和Samsung携手进入45nm时代简介:
据报道,Chartered、IBM、Infineon和Samsung近期宣布，公司成功研发其第一块基于低功耗45nm工艺制程的功能芯片。一段时间内，Chartered、IBM、Infineon和Samsung已经开始展开合作，作为大联盟的一部分，展开先进制程工艺的研究。 第一块基于45nm技术的功能电路，目标于下一代通信系统，由以上四家公司联合研发。该芯片生产于IBM的300mm晶圆厂，其大部分标准库单元和I/O基础由Infineon提供。 ...... 千吨级多晶硅项目落户锦州锦化
东芝65nm工艺设计采用Cadence产品
库力索法提高Q4财年营收预期
荷兰ASM欲在韩建芯片产品研发中心
英飞凌在亚洲的第一家前端功率产品晶圆厂正式开业
台积电发布8月财报
Mentor Graphics在台成立研发中心,迎接65纳米技术
和舰欲筹资建12寸晶圆厂
力晶半导体12寸晶圆厂全速赶工 |
|
|
|
下一个:
上一个: