独立研究机构Interuniversities Microelectronics Center(IMEC)近期表示，已经获得了全球第一套超远紫外(EUV)光刻设备。

       IMEC宣布已于8月16日收到来自ASML Holding NV的超远紫外(EUV) Alpha Demo Tool(ADT)设备，收到之后，该设备在ASML研发人员的协助下进行了全速晶圆片运行。

       该EUV设备拥有6500万个部件，被认为是IMEC先进光刻领域的重要项目。同时，IMEC还同步进行基于ASML XT 1700i的浸入式光刻、双次图形光刻等。