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SUSS MicroTec开发出高真空应用的晶圆键合机

发布时间:2006年8月6日 点击次数:832
来源:半导体国际   作者:
 

       日前,领先的半导体和新兴市场中精密制造和测试设备供应商SUSS MicroTec公司,在美西半导体展(Semicom West)上第一次展出了其独特的高真空应用的晶圆键合系统。该系统将于2006年第三季度投放市场。这套业内领先的、腔体可升级负载锁定功能的晶圆键合系统是SUSS MicroTec为先进的微机电系统(MEMS)器件所开发,这些器件需要超洁净、低湿度和低污染的真空键合环境。

       此外,这款命名为“M-Lock”的新产品非常适合片上(on-chip)MEMS器件如硅陀螺仪和其他先进MEMS产品。使用晶圆键合技术的晶圆级封装,使目前制造MEMS器件的非常关键的一步。M-Lock系统促进了晶圆键合的MEMS传感器和器件的先进工艺技术,这些产品需要片上高真空或超洁净的晶圆键合环境,以达到产品很高的性能及可靠性

。采用二级负载锁定腔,通过加热真空箱壁减小键合中除气(outgassing)的影响,这样在整个工艺流程中键合室都可维持很高的真空。

      “我们相信只有SUSS才能提供MEMS制造所需的这种负载锁定系统,这是基于我们的长期的晶圆键合机设计理念。除了该系统提供的超洁净、高真空、低除气工艺性能改进外,我们也期待为客户提供相当可观的生产力,”SUSS晶圆键合机分公司(位于美国佛蒙特州)的国际产品经理Amir Mirza博士评价道。


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