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Axcelis推出用于亚65nm制造的离子灌注器

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Axcelis技术公司推出的Optima HD是一种离子灌注器,可用于大流量灌注及亚65nm器件制造等场合。这种新型低能大剂量系统可提供200eV至80KeV能量,支持新兴双聚乙烯门和绝缘硅的分子和氢灌注。

Optima HD采用高级点束技术进行灌注,可确保晶圆上所有点从相同角度都能看到同一光束。此外,该系统还使用Axcelis的专有RadiusScan技术,提高产量,剂量覆盖范围更广,可满足传统及新兴高剂量灌注的要求。

该公司有望于2006年第二季度推出该系统。

来源:电子工程世界   作者:  2006/2/8 0:00:00
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