Axcelis技术公司推出的Optima HD是一种离子灌注器，可用于大流量灌注及亚65nm器件制造等场合。这种新型低能大剂量系统可提供200eV至80KeV能量，支持新兴双聚乙烯门和绝缘硅的分子和氢灌注。
Optima HD采用高级点束技术进行灌注，可确保晶圆上所有点从相同角度都能看到同一光束。此外，该系统还使用Axcelis的专有RadiusScan技术，提高产量，剂量覆盖范围更广，可满足传统及新兴高剂量灌注的要求。
该公司有望于2006年第二季度推出该系统。
