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远程等离子源

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  为先进的薄膜工艺制造的Litmas RPS 1501线性远程离子源能很好的适应圆片预清洗,去胶,栅介质淀积和原子层淀积(ALD)的应用。它也能促进广泛的多种其他先进工艺的应用的发展。特别是,它的即插即用的安装,广泛的匹配范围和小的占地面积可以减少新的腔体开始应用的时间。完全集成,远程,感应的等离子源和功率传输系统能够提供高的电导率,低的表面积,线性的几何形状。平台的固态功率匹配设计能够在<3msec中传输稳定的高频功率,直到1.5kw。
  Advanced Energy Industries Inc., www.advancedenergy.com

来源:半导体国际   作者:  2004/11/5 0:00:00
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