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Veeco公司的精密测量仪器和工艺设备 |
| 发布时间:2004年3月23日 点击次数:675 |
| 来源:半导体国际 作者: |
Dimension 3100扫描探针显微镜(SPM)Dimension 3100 SPM使用自动化的原子力显微镜和扫描隧道显微镜技术,可用来测量直径可达200毫米的半导体硅片、刻蚀掩膜、磁介质、CD/DVD、生物材料、光学材料和其它样品的表面特性。它的激光点定位系统和无需工具改变扫描技术的能力保证了仪器的适用性、易操作性和高的数据处理能力。 光掩膜用自动原子力显微镜 ![]() Dimension X3D-PM 是专门为光掩膜应用而设计的最新的自动化AFM。该系统能够提供无比的测量重复性、高分辨率、整体轮廓图,适用于铬合金、石英、硅化钼和光刻胶等各种材料。独一无二的3D-AFM技术是一种不受材料性质影响的高分辨且无损伤的测量技术,它具有完全的自动掩膜处理能力,Dimension X3D-PM AFM适应于收集各种详细信息于一个工具中,适用于最苛刻的掩膜制备过程,包括:多重CD线和空格、线和空格的深度测量、孔CD和深度、垂直和再进入侧面的侧面角、线宽度的变化率、掩膜修复时的缺陷检查。 Wyko DMEMS动态MEMS测量选配件(用于Wyko NT1100)此DMEMS选配件使得你可使用Wyko NT1100光学轮廓仪来三维测量微小的样品,可以评估样品的真实功能。DMEMS可抓取一系列的三维测量数据,产生样品运动的视频图象。软件中的模板可以让你得到平面内和平面外的尺寸,共振频率,形状/扭曲,弯曲和其他的重要参数。DMEMS是第一个可在一个平台上提供动态和静态测量粗糙表面和大台阶,进行完整的MEMS计量的系统。 美国维易科(Veeco)精密仪器有限公司是世界领先的精密测量仪器和工艺设备制造商。公司的主要品牌有:DI扫描探针显微镜、近场光学显微镜、DEKTAK探针轮廓仪、WYKO激光干涉仪和光学轮廓仪、NEXUS离子束沉积系统、TurboDisc MOCVD金属有机化学汽相沉积、VEECO分子束外延系统、SPECTOR镀膜系统、VEECO离子源等等。产品的服务领域广阔,其中代表性的应用涉及数据存储、半导体设备、光通讯和无线通讯和科学研究。公司致力于协助全球的用户开拓新的技术、经验和服务支持,并为人类技术进步创造着崭新的未来。 了解更多信息,请点击进入(http://www.veeco.com.cn/) |
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