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IBM推动芯片制造技术发展

发布时间:2001年4月3日 点击次数:522
来源:计算机世界   作者:
 
    IBM公司周一宣布它将联合其他一些领先的芯片制造公司,共同开发一种新的制造工艺,用于微处理器和其它类型硅芯片的生产。
    
    这种所谓的Extreme Ultra Violet(EUV,极度超紫)电路印刷技术目前得到Intel、Motorola、AMD以及其他一些公司的支持。这些公司在1997年成立了一个EUV联盟,IBM公司本周一加入了该组织。
    
    EUV印刷术能够让芯片制造商继续缩小计算机电路的尺寸,同时保持性能无减损。目前的电路印刷术在未来两到三年将达到物理极限,这使得EUV技术显得尤为重要。
    
    利用EUV技术,芯片制造者可以在长宽不超过0.1微米的芯片表面蚀刻电路。目前计算机芯片通常使用0.18微米制造工艺。
    
    Intel公司在盛赞IBM公司加入EUV组织时说,EUV技术将使得Intel公司能够在2005到2006年间制造出时钟频率达到10GHz的芯片。该公司希望到2005年首先在商用产品中使用该技术。
    


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