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纳米压印技术被纳入国际半导体蓝图，用于32纳米 |
| 发布时间:2004年1月22日 点击次数:411 |
| 来源:半导体国际 作者: |
正在开发纳米压印工具的几家名不见经传的公司有EV Group、MII、Nanonex、Obducat等。MII公司CTO S.V. Sreenivasan表示,MII携手战略合作伙伴包括Lam Research、KLA-Tencor、Motorola、DARPA和其它公司,共同降低新技术带来的风险。这项新技术有可能提前走向市场,尤其应用于关键层。 与此同时,这项公告也为下一代光刻技术(NGL),称为极超紫外线(EUV)的开发和生存能力投下了更多阴影。EUV原本预定到2007年投入主流应用,但英特尔和其它公司把该技术推迟到2009年左右。 基于沉浸技术的光刻技术正在快速进化,有可能把EUV推向绝境。而纳米压印光刻将被作为MEMS、光器件和其它产品制造的一个细分解决方案 。 |
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