 |
 |
 导航:老古开发网首页→文章索引→文章分类→半导体→[Fairchild苏州封测厂正式启用]
|
| | -文章搜索 - 最新文章 - | |
Fairchild苏州封测厂正式启用 |
| 发布时间:2003年12月2日 点击次数:1004 |
| 来源:半导体国际 作者: |
 Farichild半导体宣布,其位于苏州新加坡工业园区内的封装测试厂9月29日正式投产,并已开始向客户批量供货,生产出来的产品将在全球销售。该公司表示,Farichild苏州厂是2004年Fairchild在中国销售翻番的全球战略目标的一个关键要素。Fairchild董事长兼首席执行官Kirk Pond说,“苏州工厂是Fairchild1997年重组以来首个投资项目,将为我们的全球战略提供强有力的支持。”他还透露,Farichild今年在中国市场实现了6千多万美元的销售增长。Kirk Pond预计,与外购装配、测试服务相比,Fairchild苏州厂将有助于公司减少对生产外包的依赖性,并将节约30%的测试封装成本,同时提高对产品品质的控制。在此之前,Fairchild的封装测试外包部分占公司产品的60% ~ 70%,外包业务额有3亿美元。 此次正式启用的生产设施,是总投资2亿美元的Farichild苏州厂一期工程,包括占地40万平方英尺的装配、测试和自动化仓库,目前已有600名左右的雇员,预计到2005年雇员人数将达到1995人,目前所用设备主要是从其外包厂韩国三星搬迁过来, Farichild还将于近期购买新设备以扩大产能。目前的产品全部采用最新的无铅封装技术,希望其苏州厂成为“绿色工厂”。Farichild追加投资1亿美元的二期工程竣工后,工厂占地面积将达100万平方英尺,雇员人数将达到3500人,其中30%为技术研发人员。 |
|
|
|
 欢迎进入老古论坛进行讨论
[半导体] 相关文章:  多孔MSQ膜的清洗和k值恢复简介:
低k材料的无损伤清洗工艺对于介电层叠层的有效介电常数keff最小化来说是非常关键的。在典型的蚀刻和灰化过程中，疏水性的多孔MSQ会变为亲水性，导致水汽吸收增加，k值变大。HMDS处理则有助于将膜恢复到疏水状态，并将k值降低到与刚刚沉积时相近的值。 IC性能的提高，例如更快的时钟速度和更低的功耗，要求芯片制造时在内连线连接技术中使用低k材料。在90nm工艺中，人们已经开始使用k值在2.8~3.0范围内的高密度低k材料。国际半导体技术蓝图（International Technology Roadmap for Semiconductors, ITRS）指出2006年以前，65nm工艺将对k...... 如何实现45nm工艺引起人们强烈的兴趣
Intel对三栅极晶体管和CDO低k材料的展望
光刻掩膜区过滤器
三星推出包括两片裸片的芯片级封装
Kulicke & Soffa宣布第一个中国制造厂隆重开幕
应用材料公司300毫米Epi RP Centura 外延系统
应用材料提供新一代CMP工具
Cadence与Chartered携手提供90nm IC设计解决方案
FOUP（前端开口片盒） |
|
|
|
下一个:
上一个: