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应用材料公司300毫米Epi RP Centura 外延系统 |
| 发布时间:2003年10月29日 点击次数:541 |
| 来源:半导体国际 作者: |
Epi RP 系统建立在应用材料公司的Epi Centura 300毫米平台业已验证的生产方便性和技术之上,该平台是300毫米硅片epi 应用方面的全球市场领导者。Epi RP 的小容量、低压反应室设计以及高吞吐量与极具竞争力的低操作成本,可提供安全、可靠、无晶面、100％ 可选择性的工艺及高掺杂渗入。选择性epi工艺的卓越统一性与可重复性还可降低完工芯片的不稳定性,从而实现更易于控制的生产,并极大地提高芯片制造商的利润 。 |
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