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TI电容式数字隔离器提供超强保护性能

发布时间:2006年5月31日 点击次数:552
来源:电子设计应用   作者:
 
与通信和消费类应用相似,工业自动化对器件的数据传输速率和性能的要求也越来越高,先进的工业控制网络要求更高的数据速率、信号完整性和噪声抗扰度,而高电路密度则需要更低的功耗。在各种总线系统、伺服控制和计算机外设接口(工业场合)中,隔离器是实现噪声抑制、接地环路隔离和高压阻断等必需的接口器件,会对整个工业控制网络的工作效率产生重要影响。

目前,应用较普遍的隔离器是光学耦合器,更高级一些的则是电感式隔离器。为满足更高性能的需求,TI公司推出了电容式数字隔离器ISO721和ISO721M,该系列隔离器集成的片上电容可实现更快速的数据传输和更高的信号完整性,其抗磁干扰能力比电感器器件至少提高6倍,且功耗较高性能光学耦合器降低了 60%。新型隔离器具有极高的性价比,非常适用于工厂自动化、过程控制(PLC)以及数据采集系统等有干扰的高电压应用场合。

该系列隔离器采用片上高电压电容器,可将数据传输速度提高3倍,而功耗低于通用的高性能光耦合器。该器件还能避免因电压快速瞬变造成的数据失真,最小保护水平为电压瞬变率为25KV/ms时数据无失真。它们采用半导体级二氧化硅电介质,这种稳定的绝缘体具有高度的可靠性和耐用性,而这正是工业应用的关键要求。在典型的工作电压条件下,该器件的预期使用寿命一般超过25年。

ISO721与ISO721M可实现高达560V的工作电压隔离,或承受4000V的瞬态峰值过压。ISO721M 适用于要求快速传输数字数据且系统关联噪声较低的应用领域,其速率高达150 Mbps。而ISO721灵活性更高、稳定性更强,适用于在有干扰的环境下传输数据,其速率可达100Mbps。(迈克)

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