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加利福尼亚州圣荷塞,2006 年 6 月 13 日讯 — KLA-Tencor （NASDAQ： KLAC）今天宣布,由 Freescale Semiconductor、STMicroelectronics 和 Philips Semiconductors 三家半导体生产商组成的 300 毫米生产和研发协作約联盟 Crolles2 Alliance 已采用新型 2800 宽带 DUV 明场系统,这是对 KLA-Tencor 拥有的独特检测能力的认可。 Crolles2 在其 65 纳米研发和 90 纳米生产合作中采用 2800,可检测到影响成品率的关键性缺陷,而采用上一代的检测工具是无法做到这一点的。
“我们对 Crolles2 Alliance 和 KLA-Tencor 之间的成功合作感到非常满意。 “通过在开发期间及早地采用此工具,我们已将缺陷学习周期缩短达 6 个月,同时,我们每个月都能在 90 纳米和 65 纳米技术中不断发现该工具的独特应用。”Crolles2 Alliance 的代工厂廠長主管 Joel Hartmann 指出, “鉴于我们与 KLA-Tencor 之间的成功合作关系,并且为了满足代工厂的良成品率成熟要求,我们决定另外再安装 2800 检测系统。”
作为市场上唯一的宽带 DUV/UV/可见光图形晶片检测工具,2800 可在所有工艺层上广泛地捕获所有类型的缺陷。 2800 延续了 23xx 系列 UV/可见光明场平台的成功,能无缝地集成到研发线和生产代工厂中。 自 2005 年 7 月推出以来,2800 已在全球领先的逻辑器件、存储器件及代工工厂中陆续安装使用,其中在部分代工厂中安装了多部套产品。
KLA-Tencor 公司简介：KLA-Tencor 是全球领先的为半导体制造和相关行业提供产出管理以及工艺控制解决方案的供应商。公司总部设在美国加利福尼亚州圣何塞,在世界各地设有销售和服务机构。作为 S&P 500 强企业之一,KLA-Tencor 公司在Nasdaq 上市交易,交易代码 KLAC。 欲了解该公司更多信息,请访问： http://www.kla-tencor.com。
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