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中国研发投入超日本 跃居全球第2

发布时间:2006年12月10日 点击次数:30
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  12月4日消息,据经济合作与发展组织(经合组织,OECD)日前公布的一份报告显示,中国已经超越日本,成为继美国之后的全球第二大研发投入国家。
 
  据《金融时报》网站报道,该报告显示,在过去的一年中,中国的研发投入增长了20%多。预计今年全年投入将达到1360亿美元,高于日本的1300亿美元,但仍落后于美国的3300亿美元。

  该报告是中国研发费用急剧增长的最新证明。此前也有数据表明,中国正在增加研发领域的投入,这引起了一部分西方政府的担忧。OECD科学与技术部门主管德克·派拉特(Dirk Pilat)称,中国研发投入的飞速增长“令人吃惊”。

  派拉特还补充道:“的确,中国增加研发领域的投资已经有一段时日,但能在如此短的时间内超越日本还是令人感到意外的。”

  派拉特还称,这其中,大部分费用都用于开发发面,根据快速增长的中国市场进行产品调整,而并非基础性的科研工作。因此,在美国、欧洲和日本专利部门注册的中国专利数量仍然较少。


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