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ASML和Nikon争当光刻设备的领导者 |
| 发布时间:2007年3月16日 点击次数:60 |
| 来源: 作者: |
美国加利福尼亚州,圣何塞消息：荷兰光刻设备制造商ASML Holding NV公司和日本Nikon公司分别宣称自己是光刻设备制造的技术领导者。 2月28号,日本Nikon公司宣称,该公司出厂了全球第一款45纳米的浸湿式光刻系统,即NSR-S610C,这一系统使用1.30数字孔径投影镜头的193纳米的浸湿式扫描仪,据说己经发货给芯片制造商日本东芝公司。Nikon公司是去年开始生产这一系统的。 而荷兰ASML公司则声称自己是本行业的领导者。在2005年,ASML公司就推出了新型光刻系统,XT:1700i,这一系统使用1.2数字孔径投影镜头,193纳米的浸湿式扫描仪,可以量产45纳米芯片。而去年,ASML公司又推出了XT:1900i系统,该系统使用1.35数字孔径投影镜头的193纳米的浸湿式扫描仪,并计划2007年中旬推向市场。 |
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