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CMOS新工艺提供半导体标准设计平台 |
| 发布时间:2003年8月3日 点击次数:153 |
| 来源:中电网 作者: |
虹NEC新近开发完成的0．25微米CMOS工艺提供标准设汁平台。为更好满足客户的需求,最近,华虹NEC完成了对公司原有的NEC 0．25微米工艺制程—UC2的改造,开发完成丁面积更紧渎,时序性能更优越,更具有竞争力,和其他晶圆代工厂相容的0．25微米新CMOS工艺—CL250G。 根据协议,芯原的设计平台包括标准单元库(Standard CellLibrary),输入和输出单元库(I／O Cell Library)和存储器编译器包括有单口和双口静态随机存储器(Single Port and Dual PortSRAM Compiler),寄存器(OnePort and Two Port ReXister File)和扩散可编程只读存储器(Diffusion ROM Compiler)。 本文摘自《半导体技术》 |
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