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富士通在65nm芯片设计利用明导EDA检曝光 |
| 发布时间:2007年6月1日 点击次数:394 |
| 来源:技术在线 作者: |
美国明导国际（MentorGraphics）宣布,该公司的DFM工具“CalibreLFD”已经能够用于富士通65nm工艺芯片设计。CalibreLFD是一种EDA工具,可用于寻找在实施曝光中可能会出现问题的掩膜设计。 通过富士通与明导的合作,不仅公司内部的芯片开发人员,连硅代工业务的用户也能够开始使用CalibreLFD。具体来说,提供的是面向65nm工艺的CalibreLFD设计工具包。在发布资料中介绍了富士通市野尚治（技术开发部电子元件业务本部总经理）的发言。 |
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