明导国际(Mentor Graphics)日前宣布,松下电器(Matsushita Electric Industrial)所属的半导体公司已决定将CalibreR OPCverify工具用于65奈米和更先进制程的生产作业。Calibre OPCverify能于制造芯片前找出和修复潜在的重大良率问题,进而克服制程变异管理的艰巨挑战。

       制程变异可能对芯片良率产生极大影响,这种现象在微影制程中尤其明显,因为就算微影设备的作业条件在可接受范围内,影像传真度也可能因为制程变异而出现极大失真。为了减少芯片故障风险、避免昂贵的重制过程和确保产品上市时程,Calibre OPCverify能在设计进入光罩制作阶段或交给晶圆厂商生产前找出制程变异导致的微影错误或误差。

       Calibre OPCverify使用已通过芯片验证的Calibre OPCpro仿真模型,这种下一代RET验证工具提供全芯片的仿真涵盖范围以确保芯片图案转移成功。Calibre OPCverify画素式仿真引擎所采用的专利算法可定义不利于图案转移的各种条件(曝光剂量、焦距),克服制程变异所产生的负面影响。

       Calibre OPCverify所有建模功能都已针对最先进的制程条件完成彻底的特性分析,例如浸入式微影技术。Calibre OPCverify工具并采用最严谨的模型开发与验证方法,使其能同时满足RET配方验证和光罩检验的最严苛要求。 使用Calibre OPCverify的另一优点是这些工具能以最佳方式利用现有硬件,例如结合工作站的高速运算效能和Calibre MTflex的并行处理能力来大幅缩短全芯片RET验证的TAT时间(Turn Around Time)。虽然实际验证时间与所用硬件有关,Calibre OPCverify百万画素仿真器可扩展使用数百颗处理器和支持展平式或阶层式设计,同时确保生产环境能够预测TAT时间。