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Synopsys：变异察觉设计迎接亚65纳米工艺 |
| 发布时间:2006年9月9日 点击次数:563 |
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EDA供应商Synopsys公司宣布,其被称为IC制作和验证的开放源码建模业界标准的Liberty库格式又有新扩展。Synopsys称,这些新扩展将可以实现变异察觉设计,让工程师能够控制设计空间,改进设计强度并提升参数良率。为了确保最高等级的精确度,这些新扩展被加入到用来统一时序、信号完整性和功率的合成电流源(CCS)建模上。 Synopsys表示,制程变异模型将能实现变压察觉设计以及一些新兴应用：如统计静态时序分析等;而由于其设备的可变性和低于65纳米的技术接点处的连接,制程变异模型也有一定的不稳定性。 Synopsys称,CCS建模技术已经确证可以在主要半导体公司的HSpice电路仿真器上实现误差低于2％的精确度 。2004年问世的CCS被认为是Cadence Design Systems公司在2001年推出的有效电流源建模(ECSM)的竞争对手。上周,Cadence宣布将与其它几家公司合作,加紧推出一个Silicon Integration Initiative公司的开放建模联盟框架下的标准统计分析库格式。Synopsys公司执行组工程副总裁Ahsan Bootehsaz表示：“这将是我们通过实现变异察觉设计和推进行业开放性及互用性,从而迎接新兴的亚65纳米制造化设计挑战的战略的关键要素。” |
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