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尼康售出用于55纳米存储器制造的浸入式光刻机 |
| 发布时间:2006年8月15日 点击次数:271 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Semiconductor Reporter网站报道,尼康于2月16日宣布,曾于今年一月份向一家IC制造商售出世界上首台浸入式光刻系统NSR-S609B,该系统配备世界首台数值孔径达1.07的超大数值孔径透镜。 该系统主要用于55纳米存储器量产和45纳米器件开发。尼康公司说,NSR-S609B之所以能够被选中是因为其较早的市场推广和尼康的“原位填充”技术以及双平台技术。 尼康的原位填充技术主要是为了避免由于浸入技术带来的缺陷,使光刻过程中没有气泡,没有水渍,并避免北面沾污。 尼康的双平台技术用于提高光刻产率,提高精确度和系统的长期稳定性。他使用不同功能的两个平台来优化浸入式光刻系统的功能。曝光平台的设计使硅片有高的加速度和扫描速度,而对准平台则用来在每次更换硅片时校准工具。 尼康公司说,采用这两项技术的系统拥有高产率和高精度。其对准精度小于7纳米。浸入式光刻随时间漂移带来的误差以及波动误差已经通过频繁的校准验证来加以消除。 相关链接（英文）：http://www.semireporter.com/public/12220.cfm |
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