诺发系统有限公司（Novellus Systems,Inc）,近日宣布已经向位于中国北京的清华大学捐赠了一套200毫米的化学机械抛光（CMP）设备。这套设备以氧化平坦化工艺处理为主,可用于多种材料的抛光,包括在集成电路制造中使用的钨、铜以及浅沟道隔离(STI)薄膜等。

此套轨道式CMP系统可以将多层金属化集成到清华大学的半导体生产流程中,它还将有助于清华大学提高在微纳电子集成电路的工艺处理及设计方面的研究和教学水平。除此之外,诺发还宣布将向清华大学提供为期三年的教授基金。在第一年该项基金将被授予清华大学微电子学研究所（IMETU）第一副所长余志平教授,以支持其对集成有低k介质材料的器件性能的研究。

“随着中国电子行业的持续繁荣发展,中国的大学正面临着如何加速研究和教育以适应业界快速发展的需求这一挑战,”诺发系统有限公司亚洲首席技术官奚明博士说。“对诺发而言,我们在中国不仅有商业责任,更有社会责任。我们致力于培养本地区丰富的优秀人才,以促进中国半导体行业的发展

“此次慷慨的设备捐赠以及我们与诺发系统公司持续的合作关系将增强我们的科研能力,并使我们能够在学生参加实际工作前为他们提供尽可能多的培训和接触半导体制造技术的机会,”清华大学微电子学研究所副所长许军教授说。“我们对此表示真诚的感谢。”

在过去几年中,诺发公司一直都在为中国的微电子教育事业提供资助。2003年,该公司向复旦大学捐赠了一套铜半导体生产设备。此外,通过资助每年在复旦大学召开的互连论坛年会,诺发公司一如既往地支持中国半导体行业的成长。