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Axcelis发布新型分子注入设备 |
| 发布时间:2006年9月5日 点击次数:288 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Semiconductor Reporter网站报道,Axcelis Technologies Inc.近期发布了一款新型分子注入设备,其目标是在存储器和逻辑电路的生产过程中提供高剂量和低能量的注入工艺。 作为该公司新型Optima HD平台的扩展,Optima HD Imax可以通过注入硼束来替代单个硼原子的注入,从而提高生产效率、减少工艺时间。该公司表示,这种新型设备将于今年年底开始交货。 分子注入技术重点应用于65nm以下工艺,公司总裁Mary Puma表示,该设备将使客户更快地实现生产目标,并第一时间看到经济收益。 Imax技术可以应用于所有标准的Optima HD注入设备。Axcelis公司自1990年就开始着重于低能量注入技术的研究。 相关链接（英文）： |
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