Photronics日前宣布了将在韩国建设世界一流的光掩模生产线的计划，旨在支持制造65nm、45nm及以下生产工艺的半导体器件所需的先进光掩模技术的开发和量产。目前，该公司处于寻找合适生产线场地的最后阶段。生产厂房预计在2006年下半年末举行奠基典礼，在2007年下半年建造完成。Photronics希望今后几年对新的基础设施(包括某些制造系统与工艺技术的重新部署)的投资额度能达1.5亿到3亿美元。
Photronics首席执行官Michael J.Luttati表示：“虽然技术的发展速度不可能减慢，但它将集中到半导体产业中某些最大的公司手中。65nm、45nm和32nm工艺节点呈现出来的性能和经济驱动力将使Photronics向全球领先半导体制造商和代工厂提供的图像分辨率技术和服务赢得极好的客户合作机会。对Photronics来说，今后几年这些工艺节点将在全球光掩模产业中成为增加最快的领域 。”