Crolles2联盟日前在京都举办的VLSI会议(VLSI Symposium)中发布的文件中，描述了针对新一代低成本、低功耗、高密度消费性电路的超小型制程选项－使用传统大量CMOS制程技术与45纳米设计规则，在量产条件下建构面积小于0.25平方微米的6晶体管结构SRAM单元。 

　　Crolles2是由飞思卡尔半导体、飞利浦、意法半导体共同组成的联盟。其位于法国Crolles的300毫米试产线曾制造出1.5Mbit阵列。此次合作发布的文件再次展示了该联盟作为业界领先的65纳米及45纳米CMOS设计节点之最大研发联盟的成功地位。 

　　Crolles2联盟表示，以创新与技术领先为基础，我们已成功地展示了在45纳米节点生产功能电路与超高密度SRAM单元的能力。

　　这个先进的Crolles2晶圆厂生产线已开始试产300毫米晶圆的90纳米CMOS组件，并预计在2005年生产65纳米CMOS的原型。而最新发布的45纳米技术，则是迈向新一代量产制程技术的关键。