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JSR Micro将加州晶圆工厂升级到300mm |
| 发布时间:2006年9月4日 点击次数:536 |
| 来源:SEMI 作者: |
据The Semiconductor Reporter网站报道,光刻胶及其它半导体制造材料供应商JSR Micro Inc. 目前正在将其加州的200mm制造工厂升级到300mm。 JSR Micro总裁Eric Johnson表示,我们的高端客户需要我们提供先进的生产制造能力,将工厂升级到300mm后,结合高NA大调扫描电镜,我们将完全有能力满足客户的需求。 针对此次升级,JSR Micro已向Sokudo Co. Ltd.公司购买了一套RF3跟踪测试系统,并会在今年第四季度发货。这套RF3系统支持65nm及45nm工艺并可用于45nm及以下节点的多层材料、化学收缩材料、抗反射涂层工艺中。 相关链接（英文）：http://www.semireporter.com/public/14630.cfm |
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