JSR Micro将加州晶圆工厂升级到300mm

据The Semiconductor Reporter网站报道，光刻胶及其它半导体制造材料供应商JSR Micro Inc. 目前正在将其加州的200mm制造工厂升级到300mm。

JSR Micro总裁Eric Johnson表示，我们的高端客户需要我们提供先进的生产制造能力，将工厂升级到300mm后，结合高NA大调扫描电镜，我们将完全有能力满足客户的需求。

针对此次升级，JSR Micro已向Sokudo Co. Ltd.公司购买了一套RF3跟踪测试系统，并会在今年第四季度发货。这套RF3系统支持65nm及45nm工艺并可用于45nm及以下节点的多层材料、化学收缩材料、抗反射涂层工艺中。