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JSR Micro将加州晶圆工厂升级到300mm

发布时间:2006年9月4日 点击次数:536
来源:SEMI   作者:
 

据The Semiconductor Reporter网站报道,光刻胶及其它半导体制造材料供应商JSR Micro Inc. 目前正在将其加州的200mm制造工厂升级到300mm。

JSR Micro总裁Eric Johnson表示,我们的高端客户需要我们提供先进的生产制造能力,将工厂升级到300mm后,结合高NA大调扫描电镜,我们将完全有能力满足客户的需求。

针对此次升级,JSR Micro已向Sokudo Co. Ltd.公司购买了一套RF3跟踪测试系统,并会在今年第四季度发货。这套RF3系统支持65nm及45nm工艺并可用于45nm及以下节点的多层材料、化学收缩材料、抗反射涂层工艺中。

相关链接(英文):http://www.semireporter.com/public/14630.cfm


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