Therma-Wave公司是制程控制测量系统设备中需要用到的半导体开发、制造及销售的全球领导者，日前公司宣布 Tokyo Electron Limited (TEL) 再次下单订购多套 Therma-Wave 集成化测量工具。Therma-Wave 的高级 INTEGRA? CCD-i 关键尺寸 (CD) 测量工具将配合 TEL CLEAN TRACK ACT? 与 CLEAN TRACK? LITHIUS? 涂装/显影机使用，进行 90 nm 与 65 nm 技术的深度开发与生产。
　　去年末，Therma-Wave 与 TEL 宣布将共同致力于 CD 测量技术的开发及产品制造，以期满足这一区域不断增长的客户需要以及蓬勃发展的市场机遇。目前，高级 CD 测量产品的装机量在全球迅速增长。市场分析公司 Dataquest 的资料显示，CD 市场的总体规模预计将由 2003 年的 3.51 亿美元成长至 2004 年的 5.97 亿美元，同期微影测量市场总体规模也将由 6.60 亿美元增至 11.5 亿美元。
　　"集成测量技术正逐渐更广泛地被接受为提高生产力的有力手段，"Therma-Wave 公司"集成化产品暨业务规划部"高级副总裁 James Mitchener 博士说到。"当今客户一直在承受着提供更高制程性能、生产实用性及制程可重复性等方面的压力，以期最大限度降低生产损失的风险，提高生产效率及设备产出。我们一直同 TEL 密切配合来迎接这些挑战，通过不断向他们提供可实现更高生产力的工具，满足这些最先进的生产需求"。
　　作为 INTEGRA 成套集成化测量产品的一部分，INTEGRA CCD-i 系统为生产过程中的涂装/显影机应用提供了一套集成的 CD 解决方案。给客户带来的主要好处包括：通过消除离线 CD 测量造成的时间延迟提高了总体生产力;完整的晶圆至晶圆测量带来了更高的统计采样、更严密的制程监测，使得高级制程控制 (APC) 及新技术的实施成为可能，带来更高的产出。