KLA-Tencor推出了 Puma 91xx 暗场图样晶片检测系统 — 其广受青睐的 Puma 产品系列的最新成员。旨在以最低的拥有成本 (CoO) 捕获最广泛的关键缺陷类型，Puma 91xx 系列能够以相等或更高的灵敏度提供接近两倍于前一代 Puma 9000 系列的生产能力 — 这使它成为 65 纳米和 45 纳米节点暗场检测的性能王者。多套 Puma 91xx 系列系统已经运往世界各地的领先逻辑、DRAM和闪存代工厂，用于生产过程中的先进制成设备和线上产品监控应用。KLA-Tencor 当前已安装的 Puma 9000 系统可以现场升级到 91xx 系列性能水平。 　　 

　　为因应亚 65 纳米设计准则，竞争激烈的环境、更短的产品生命周期和不断上升的高级工艺节点成本推动了对高成本效益制造的需求。这些经济方面的压力增强了业者对周期时间缩减、拥有成本和资本管理的关注。结果是，IC 制造商需要在最大程度地发挥设备价值的同时，不牺牲最大化和保护其成品率所需的性能。要满足此需求，检测工具必须能够在最广泛的工艺层面上提供成本优化和性能优化的缺陷监控。Puma 91xx 系列在缺陷类型捕获和生产能力两方面均居领先地位，而且其灵活的架构可供配置为可满足存储器和逻辑器件领域广泛的应用和价格水平需求。 　　 

　　适用于所有器件类型的性能王者 　　 

　　Puma 91xx 系列在速度、灵敏度和易用性方面有重大改进。与 Puma 9000 系列相比，在同等灵敏度下，增强的数据处理使检测处理能力几乎两倍。额外的像素组合提供当今最广泛的生产能力，可实现更多的采样、更高的灵敏度和更低的拥有成本。与上代产品一样，Puma 91xx 系列采用 KLA-Tencor 的专利 Streak™ 多像素传感器和线路扫描技术实现高分辨率暗场成像检测，而且消除了传统暗场系统的声光学器件 （AOD） 和光学倍增管 （PMT）所具有的速度和灵敏度限制。 　　 

　　实现更快的生产集成 　　 

　　KLA-Tencor 新的快速自适应单阈值 (FAST) 算法使工具配方设置显著简化，与之前的算法相比，该算法将新建和微调程式所需的参数数量减少了近 80%。KLA-Tencor 的在线缺陷管理工具 (inline Defect Organizer™ (iDO™)) 分类解决方案提供更准确的缺陷分类，因此可以更快地识别出问题根源。与 KLA-Tencor 的 23xx/28xx 明场检测工具及 eS3x 电子束检测工具的使用者介面通用性使用户可以进行跨平台程式共享，以优化检测工具处理能力并加速将检测工具集成到生产中的过程。