据Semiconductor Reporter网站报道，EDA开发公司Sierra Design Automation Inc.近期宣布，公司将与Mentor Graphics合力开发应用于65nm和45nm设计的光刻设计软件。Sierra-Mentor合作将努力着重于推广具有“可变性设计”的设计流程和顺利光刻设计(LFD)环境。其工作主要是计划建立IC设计与光接近修正(OPC)和分辨率增强技术(RET)之间的联系。

LFD可以让设计者验证在现有光刻制程窗口下的光刻输出，并迅速做出设计调整。LFD软件包包含了能量、剂量和掩膜板偏差补偿、RET方法、制程模型和可参数化规则的检查，所有结果将保存于一个公用结果数据库中。

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