Candence的版图设计工具是Vituoso Layout Editor,即为版图编辑大师,它操作方便,功能强大,可完成版图编辑的所有任务。
以C32044电路为例登录:
USERNAME:C32044
PASSWORD:*******coder320
在UNIX界面cmdtool窗口中输入以下命令:(注意大小写)
(抓图的步骤如下:program→snapshot→snap→点窗口)
在icfb窗口菜单中点击Tools->Library Manager即出现Library Manager菜单,点击此菜单File->New->Library建库,名为aa,在Library Name项输入aa, OK
在aa库中建立新文件block:File->New->Cellview,在Cell Name中输入block, OK
在openbook中有一个很好的例子,该教程的访问顺序为:Main->ICTools->Tutorials and Flow Guides->Cell Design->Tutoial。
如果要打开版图,则在View Name项中输入layout, OK
如果要打开逻辑图,则在View Name项中输入schematic, OK
² 版图
双击打开新建的文件block,则弹出Virtuoso Editing窗口及LSW窗口。
与电路设计不同的是,版图设计必须考虑具体的工艺实现,因此存放版图的库必须是工艺库或附在别的工艺库上的库。否则,用隐含的库的库将没有版层,即LSW窗口只有一个黑框,便无从画图了。因此,在设计版图前必须先建立自己的工艺库。方法为:
点击Edit->Set->Valid Layer设置需要使用的层次
将需要使用的层次后的方框点黑 OK
点击LSW窗口菜单Edit->Display Resource Editor
选择要编辑的库名称(在Tech Lib Name)中选择aa
在 Fill Color
Outline Color
Stipple
Line Style
四项中点击选择各层次的颜色及条纹,选择完毕后点击 APPLY ,在菜单中选择File->Save,选择Directories及Files OK
以上设置完成后LSW窗口中将会出现你所需要使用的各层次及设置的对应颜色。为了便于区分,各层次不要使用相近的颜色。
² LSW中各层次注释
nwell | N阱 |
pwell | P阱 |
pact | P有源区 |
nact | N有源区 |
poly | 多晶 |
actcont | 有源区上的孔 |
polycon | 多晶上的孔 |
metal | 金属(铝) |
vapox | PAD |
resimp | 电阻标记 |
dioimp | 二极管标记 |
ncap(pcap) | 电容标记 |