据Reed-Electronnics网站报道，美国半导体设备制造商Photronics Inc.计划在韩国中部投资3亿美圆建造一座新的光刻掩膜版工厂。

新工厂将坐落在韩国Cheonan省境内，距离首都Seoul92km，占地33285平方米，计划在2010年竣工。新工厂的兴建将会带来1000个就业机会，并会赢得365万美元的出口收入。

数日前，公司代表与Cheonan省市政府之间签订了协议书，并且对于租地免交50年的费用。

相关链接（英文）：http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN409423765.html