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美国Photronics公司投资3亿美元在韩国建新厂 |
| 发布时间:2006年8月21日 点击次数:413 |
| 来源:SEMI 作者: |
据Reed-Electronnics网站报道,美国半导体设备制造商Photronics Inc.计划在韩国中部投资3亿美圆建造一座新的光刻掩膜版工厂。 新工厂将坐落在韩国Cheonan省境内,距离首都Seoul92km,占地33285平方米,计划在2010年竣工。新工厂的兴建将会带来1000个就业机会,并会赢得365万美元的出口收入。 数日前,公司代表与Cheonan省市政府之间签订了协议书,并且对于租地免交50年的费用。 相关链接（英文）：http://www.reed-electronics.com/semiconductor/articleXml/LN409423765.html |
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