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Atmel和CEA宣布应用纳米晶体技术于闪存,提升性能 |
| 发布时间:2006年5月16日 点击次数:414 |
| 来源:半导体国际 作者: |
Atmel和法国原子能委员会(CEA)运作的电子应用研究实验室Leti日前宣布就闪存中采用的硅“纳米晶体”技术达成一项合作协议。合作的首项成果预计在2006年年底前公布出版。 该项目开发的硅纳米晶体技术将被集成到Atmel目前已展开的下一代非易失性存储器研发项目Erevna中。该项目的总体目标是研制出130nm、90nm和65nm节点的非易失性和嵌入式存储器,2009年可实现商用。 纳米水晶硅用晶体断层来存储电荷,据称是推动闪存发展的一种方式,但可能由于电荷泄漏而在缩放时出现问题。常规浮动门闪存包含多晶硅沉积层,以维持电荷。随着进一步缩小,避免出现使电荷泄漏的缺陷变得日益困难。通过转向大约600个或相当的纳米水晶,每个直径大约为50埃,位单元获得了浮动门层断裂的免疫能力。 |
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