Mentor Graphics宣布其Calibre设计与制造平台的多款工具已通过认证，现已能为IBM、特许半导体(Chartered Semiconductor)、三星(Samsung)的65纳米工艺通用平台，提供具可靠性的可制造设计(DFM)解决方案。

IBM、特许半导体和三星将与Mentor密切合作，针对65奈米的Common Platform技术将Calibre LFD最佳化，并提供设计人员一套LFD工具，以支持这三家半导体厂商共同的65纳米工艺。此外Common Platform亦将利用Calibre YieldAnalyzer，协助客户达成高良率设计(design-for-yield);该方案包含各种可制造设计规则，范围涵盖随机性、系统性和参数性等良率损失相关的所有重要领域。

Common Platform合作厂商已于2005年9月列出在可制造设计方面的策略和发展蓝图，其中特别强调联合开发团队所关注的多项重要领域;该合作旨在解决日益困难的设计收敛问题，包括时序、面积、耗电、讯号完整性和可制造性 。