老古开发网首页
导航:老古开发网首页文章索引文章分类半导体→[光刻模拟系统]
| -文章搜索 - 最新文章 - |

光刻模拟系统

发布时间:2006年4月25日 点击次数:480
来源:半导体国际   作者:
 

焦深能量模型系统(FEM)是一种使用单一模型对全尺寸的芯片进行完整工艺窗口模拟的光刻模拟技术,能够在掩膜版制造或硅片生产前模拟真实的光刻工艺表现。依靠此项技术,用户能够通过一个单一全面的光刻工艺模型得到完整的焦深和能量的工艺窗口,模拟技术采用了第一性原理以及涵盖全尺寸芯片和产量的物理模型进行模拟计算。

Brion Technologies Inc.  www.brion.com


欢迎进入老古论坛进行讨论
[半导体] 相关文章:
离子注入设备
简介:
VIISta 900XP是一款为满足使用亚兆电子伏能量实现N或P型反阱工艺的需求而设计的离子注入设备。 设备提高了注入能量的使用上限,并优化了结构能够实现精确的真正零角度的离子注入。VIISta 900XP的产量达到每小时500片. Varian Semiconductor www.vsea.com ......

Isuppli调整NAND Flash和DRAM市场评估
RF Micro扩充晶圆厂满足手机市场需求
中国IC供不应求,供应缺口达440亿美元
中芯挤入05年晶圆代工厂商排名前三
上海先进即将上市,预期上半年扭亏为盈
Surface Technology Systems赢得MEMS生产设备订单
光电晶体管可取代CdS光敏电阻
PowerLine IC E系列激光器
不断壮大的无线通信市场挑战无线测试技术
 
下一个:[半导体]光刻光源
简介:
XLA400是第五代基于主控振荡功率放大器的光刻光源,是为65纳米技术而夺身打造的. 在6 kHz的工作脉冲频率下,输出功率是90 W,并且可以进一步的增大, 设备兼容各种类型的光照条件, 并满足用户对线宽控制的严格要求。利用可变输出功率的优势,设备使芯片制造商在不降低产量的情况下将ArF光刻技术向下延伸到45纳米技术节点, 同时减少了对某些为提高产能而使用的分辨率加强技术的依赖.灵活的设计使XLA400也支持实现45纳米技术节点的超高数值孔径浸没式光刻设备 Cymer Inc. www.cymer.com ......
 

上一个:[行业观察]标题:iSuppli公司看好2006年存储市场

老古开发网版权所有 2006年9月 asp.Net V2.0 设计:老古
页面缓存:否 执行时间:16毫秒