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离子注入设备

发布时间:2006年4月25日 点击次数:458
来源:半导体国际   作者:
 
VIISta 900XP是一款为满足使用亚兆电子伏能量实现N或P型反阱工艺的需求而设计的离子注入设备。 设备提高了注入能量的使用上限,并优化了结构能够实现精确的真正零角度的离子注入。VIISta 900XP的产量达到每小时500片.
Varian Semiconductor  www.vsea.com


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