 |
 |
 导航:老古开发网首页→文章索引→文章分类→半导体→[Sematech认可MSQ作为超低K材料]
|
| | -文章搜索 - 最新文章 - | |
Sematech认可MSQ作为超低K材料 |
| 发布时间:2003年12月22日 点击次数:485 |
| 来源:半导体国际 作者: |
这种MSQ(methylsilsesquioxane)薄膜材料由硅氧及碳氢化合物组成,物理结构类似于meringue。MSQ介电常数约为2.5,ISMT表示,目前业内使用的低K材料K值范围为2.65~3.0。 ISMT没有详细解释质量认证的细节,但声称这项进展有可能促进MSQ作为芯片制造商在65纳米制造工艺技术节点的一种超低K备选方案。 ISMT技术专家表示,超低K材料允许芯片上极薄的铜线布局非常靠近,不会出现短路或泄露电流,有可能在2到5年内被应用于商业化制造领域。 多孔渗水MSQ克服了几大工艺挑战,包括薄膜碳损耗、结构性缺陷、对化学品的易感性。 |
|
|
|
 欢迎进入老古论坛进行讨论
[半导体] 相关文章:  Jazz向华虹NEC授权0.18微米CMOS硅锗工艺技术简介:
Jazz半导体公司日前表示，已经向中国大陆晶圆代工服务商上海华虹NEC达成投资协议，将其0.25微米到0.18微米CMOS硅锗工艺技术授权给华虹NEC。 做为回报，Jazz将获得华虹NEC的200毫米晶圆厂CMOS产能保证，一旦美国政府放开对中国的半导体设备出口，Jazz也计划向华虹NEC输送其0.25到0.18微米BiCMOS和硅锗设备。 Jazz公司没有公布投资的具体情况，这是该公司在中国今年度的第二笔交易。2003年1月，Jazz对上海先进半导体制造有限公司(ASMC)公司进行了投资，向后者提供了0.35微米工艺技术，包括BiCMOS和硅锗工艺技术 。...... 3D封装是唯一发展提高方向
浸入式光刻建模工具
300毫米Epi RP CenturaR 外延系统
超厚光刻胶
300mm铜电镀系统
氟气生成系统
Kulicke & Soffa苏州厂正式运营
诺发和上海复旦大学成立半导体工艺技术研究中心
Fairchild苏州封测厂正式启用 |
|
|
|
下一个:
上一个: