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Photronics加速投产90纳米光刻掩膜板

发布时间:2002年3月21日 点击次数:9
来源:中电网   作者:
 
Photronics公司正加速投产采用90纳米工艺的新型光刻掩膜板(Photomask)产品。

Photronics的新型光刻掩膜系列将为市场带来多种新型芯片产品,但该公司与其竞争对手一样,在90纳米光刻掩膜板reticle(注:单一衬底图层中一个或几个裸片的组合)方面,都面临着一些严峻挑战。有分析家表示,光刻掩膜板成本现在已经失控,预计每套0.09微米光刻掩膜板成本将达200万美元;与此相比,0.13微米设计中空白光刻掩膜板每套仅为65万美元。

Photronics计划推出的光刻掩膜板涵盖三种基本类型:NanoRange、ePhase和tPhase。该公司的官员透露,NanoRange是其标准二元光刻掩膜板(Binary Reticle),而ePhase和tPhase基于相移(phase-shift)技术,用于尺寸小于曝光光刻波长的器件。ePhase应用“软性”或变薄的相移光刻掩膜板,而tPhase则基于“硬性”或是交互的相移技术。

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