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MATTSON打入快速热氧化市场 |
| 发布时间:2006年8月21日 点击次数:403 |
| 来源:SEMI 作者: |
据半导体科技网站报道,半导体高级处理设备供应商Mattson科技公司近期推出了其快速热处理(RTP：rapid thermal processing)家族的最新产品——Atmos,它的推出使得Mattson的快速热处理产品得以进入正在增长的快速热氧化(RTO：rapid thermal oxidation)的市场。 Atmos建立在Helios RTP平台之上,拥有双反应腔、先进的300mm快速热处理系统,可满足32nm芯片大批量生产严格的热处理要求,并且考虑到了产业界对于单个晶圆加热的需求。 Atmos对于各种快速热氧化应用也得心应手,那些对于热要求极其严格的先进氧化应用如选择性氧化和沟道内壁隔离层氧化也可采用。 |
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