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英特尔放弃157nm光刻工具开发 |
| 发布时间:2003年8月21日 点击次数:792 |
| 来源:半导体国际 作者: |
英特尔最初期望采用193纳米和157纳米扫描器用于2007年45纳米节点的IC制造。据业内专家分析,英特尔将通过辅助技术扩展193纳米的功能,通过改变镜头数值孔径等方法实现45纳米。英特尔计划2009年将直接使用深紫外工具开发32纳米节点 。 |
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