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中芯获0.13微米关键生产设备 |
| 发布时间:2003年4月20日 点击次数:16 |
| 来源:中电网 作者: |
这次美国允许出口的半导体设备有：193纳米的超紫外线光刻机和高级光学校正仪等。而在此前,中芯公司已向日本尼康和荷兰ASML公司订购了0.13微米的光刻机。实际上中芯国际己经拥有了0.13微米线宽器件的生产设备,并已开始为德州仪器公司生产半导体器件。 有关人士指出,中芯国际此次获得美方进口许可,将沉重打击迟迟不能顺利进军祖国大陆的台积电和联华电子等台湾半导体厂商。受到台湾当局的限制,台积电只能在祖国大陆安装0.35微米和0.25微米的陈旧设备。而中芯国际此次与台积电等厂商可同步进口先进设备,并且可获得日本Elpida和德国Infoneon转让的0.11微米生产工艺,无论在工艺上还是在生产设备上,都与台湾厂商相差无几,这将严重影响台积电的生产和销售。 |
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