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英特尔跳过157纳米光刻技术 |
| 发布时间:2003年6月1日 点击次数:25 |
| 来源:中电网 作者: |
英特尔现在希望用193纳米扫描器生产电路只有45纳米那样细的芯片。这种电路的细度比目前机器能够制作的电路细一倍,相当于人类头发丝的千分之一。光刻工具用来把电路和晶体管的影像投影到硅晶圆上面。 英特尔、ASML和其它公司正在合作开发EUV机器。英特尔预计还将评估来自ASML公司的竞争对手日本的尼康和佳能公司的EUV设备。 |
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