日前，英特尔公司称他们已经通知光刻机器供应商，将不购买下一代工具设备，即157纳米光刻工具。英特尔希望延长193纳米工具的使用寿命，直到能够直接升级到157纳米以后的远紫外光刻（EUV）工具。EUV工具能够制作比157纳米更细的电子电路，目前仍在研制之中。

英特尔现在希望用193纳米扫描器生产电路只有45纳米那样细的芯片。这种电路的细度比目前机器能够制作的电路细一倍，相当于人类头发丝的千分之一。光刻工具用来把电路和晶体管的影像投影到硅晶圆上面。

英特尔、ASML和其它公司正在合作开发EUV机器。英特尔预计还将评估来自ASML公司的竞争对手日本的尼康和佳能公司的EUV设备。