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光刻曝光系统
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TWINSCAN C光刻系统是本公司TWINSCAN系统的增强型系统。根据产品模式,能提高约15%的产量。实际生产条件下(109次曝光/晶片),由于生产率的提高,300mm晶片的产量可以提高到110片/小时以上。TWINSCAN系统提高了平台移动速度,因此可以在保持成像、对准精度和水平移动精确度的同时提高生产效率。
ASML Holding NV (ASML) www.asml.com
来源:半导体国际 作者: 2003/7/1 0:00:00
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