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台积电台联电开发45纳米半导体工艺

发布时间:2006年6月30日 点击次数:31
来源:太平洋电脑网   作者:
 
台湾地区半导体厂商台积电(TSMC)的副总裁Jack Sun表示,公司最快将在2007年第三季度开始采用45纳米的生产工艺进行批量生产。此外市场消息指出,台联电(UMC)目前也在致力于发展45纳米的生产工艺。

  Sun指出,台积电已经成功的研发了45纳米的系统芯片开发平台,并在努力让公司成为头三家成功的采用45纳米生产工艺的厂商之一。

  而目前,IBM公司是唯一一家突破这一里程碑的厂商。公司此前宣称已经成功的开发了29纳米的生产工艺。

  台积电近来在发展自己的先进生产工艺上表现得十分努力,公司和ASML公司合作开发的沉浸光刻技术(immersion lithography technology),在今后也许将成为主流技术,只要业界对生产工艺的需求向比45纳米还先进的技术转移时。台积电预期在2009年可以采用32纳米的生产工艺进行批量生产。

  Sun表示,在芯片领域中,每一代的新技术都要比上一代的技术小巧大概40%到50%,而性能表现上提升60%同时效率提高150%。

  与此同时台联电也在努力的向45纳米生产工艺转型。目前已经有一家主要的IDM厂商和两家IC设计厂商表示有兴趣和台联电一起在这一研发中展开合作。

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