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应用材料公司推出先进的化学机械研磨抛光垫技术 |
| 发布时间:2006年12月19日 点击次数:89 |
| 来源:电子产品世界 作者: |
近日,应用材料公司宣布为200mm CMP（化学机械研磨）系统推出创新的Applied DuraPad CMP（化学机械研磨）抛光垫技术 。DuraPad的使用寿命比现有的研磨垫至少延长了30%,有效地增加了机台的有效使用时间,替客户节约了可观的拥有成本。在DuraPad制造过程中采用先进的six-sigma 制造技术保证了研磨垫不同批次之间性能的一致性,从而确保获得良好的CMP研磨效果。 应用材料公司全球服务部总经理兼资深副总裁Manfred Kerschbaum表示：“作为工艺消耗品的研磨垫对于应用材料公司来说是一个新的市场,也是我们同Praxair Electronics公司合作的重要成果。CMP系统最主要的消耗品就是研磨垫。我们感到非常兴奋可以把新的研磨垫技术带给我们的客户,帮助客户显著提高研磨垫的使用寿命、改善机台研磨效果并且降低设备拥有成本。此外,DuraPad与现有的研磨垫在使用上很相似,只需为特定的工艺条件做很小的调整和修改。” DuraPad的性能之所以能达到高度的一致性,关键在于制造过程中基片的交叉结合和处理工艺。单个研磨垫从基片上以接近净尺寸的大小裁剪出来,然后进行后续处理,保证了良好的垫上均一度和研磨垫之间的一致性。DuraPad还整合了Praxair公司拥有专利的氮气起泡法,该方法优化了研磨垫内的气孔结构,降低了缺陷率并减少了研磨液的使用量。 DuraPad抛光垫是应用材料公司在CMP领域内丰富经验的结晶。应用材料CMP系统的全球装机量已经超过了2000台。DuraPad研磨垫已经在我们主要客户的CMP应用中得到验证。 |
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