|
|
| | -文章搜索 - 最新文章 - | |
戴尔可能进军手机市场 挑战苹果和微软 |
| 发布时间:2007年3月16日 点击次数:91 |
| 来源:赛迪网 作者: |
据Tech2网站报道,数日前,戴尔刚刚任命摩托罗拉手机部门前主管Ron Garriques为公司消费电子部门总裁,此举也是迈克尔•戴尔重掌帅印以来的最新人事调整。 当然,这还不能直接证明戴尔将推出自己的手机产品。早在数年前,就有传闻称苹果将推出一款手机产品。今年1月,苹果果然发布了iPhone手机。 本月10日,又传出消息称,微软将在3月17日前发布Zune手机,并比苹果的iPhone提前一个月上市。按照原计划,苹果的iPhone将于今年6月在美国上市。 自从迈克尔•戴尔重掌帅印以来,戴尔已经出台了多项政策,如取消2006年的员工奖金,减少高管数量,在网站上销售索尼电视等。 |
|
|
|
|
[新闻热点] 相关文章: 朗明科技公司展示最新反向光刻技术简介:
2月25号,在(美国)加利福尼亚州举行的SPIE光刻印刷技术会议上,朗明科技公司(Luminescent Technologies, Inc.)展示了该公司的最新反向光刻技术的成果,该项技术成果可以应用在45-32纳米芯片制造上。 据朗明科技公司说,该公司的这项技术成果可以解决45纳米多晶硅和扩散层线长变短的问题(line-end shortening)。如今,生产商们正在探讨45纳米工艺延长分步曝光的可能性,以便推迟浸湿式光刻。 由于存在线长变短的问题(line-end shortening),目前所采用的光学临近修正(OPC)在光刻临界层时一直是十分困难的,多晶硅层由于线端...... 06年中国电子信息产业产品销售收入超4万亿
中芯国际接盘尔必达8英寸制造设备
欧盟在华追讨数字机顶盒专利费
Spansion与高通合作,为新兴市场提供手机解决方案
为45nm工艺铺路 反向光刻技术突破传统樊篱
电子产品今起控制污染 贴标产品月中开卖
德仪变策略 与代工厂商合作开发芯片技术
储存量大寿命长的RFID芯片面市
2006年Q4存储市场价值达到13.2亿元 |
|
|
|