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日本德州仪器耐压30V的新模拟工艺技术将投入量产

发布时间:2005年8月25日 点击次数:95
来源:电子产品世界   作者:
 

  日本德州仪器(日本TI)日前就模拟IC量产中采用的新工艺技术“LBC7”召开了一场记者说明会。LBC7是一种能够集成耐压30V的LDMOS(laterally diffused MOS)的双极CMOS技术,相当于现有双极CMOS技术“LBC6”(可集成耐压18V的LDMOS)的后续技术。今后,美国德州仪器公司(TI)将运用LBC7,在2005年下半年至2006年陆续投产最大耐压达数10V的电源IC、硬盘等马达驱动IC与伺服驱动IC,以及车用半导体产品等。LBC7的生产线位于日本茨城县美浦工厂。

  与LBC6相比,LBC7对特性及制造技术等都进行了改进。首先,将LDMOS的导通电阻减小了15~20%。比如,Vdss为30V时导通电阻约为0.1mΩ·cm2,比耐压特性相同的同类晶体管低20%左右。LBC7使用的模拟CMOS技术的设计工艺为0.25μm,与0.5μm工艺的LBC6技术相比,能够缩小外部逻辑电路的封装面积。据称每个芯片的封装面积可减小40%左右。芯片集成的容量与电阻的封装密度的提高也有助于削减芯片面积。比如,容量密度由最大1.4fF/μm2提高至最大8fF/μm2,电阻密度由最大1100Ω提高至最大230kΩ。

  日本TI还宣布,采用LBC7的首款量产品将是输入电压范围增大至+3.1V~+17V的DC-DC转换器电源IC“TPS62110”(7月26日TI公司的发布资料,TPS62110的商品页面)。在集成电源控制用功率MOSFET的情况下,封装尺寸仅为4mm×4mm。开关频率最高可达1MHz。(记者:堀切 近史)


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