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德仪计划08年生产新一代芯片 满足手机要求 |
| 发布时间:2006年6月28日 点击次数:460 |
| 来源: 作者:刘彦青编译 |
德州仪器宣布,它将利用0.045微米工艺生产“单芯片系统”(SoC)微处理器。SoC的性能将提高30%,而能耗将下降40%。德州仪器的高级副总裁兼技术总监汉斯说,通过平衡性能、能耗、晶体管密度,这种芯片是手机处理器和数字信号处理器(DSP)的最佳“人选”。 速度更快的处理器能够在每秒钟向手机显示屏传输更多帧的图像,使用户同时运行数个应用软件,例如在举行视频会议期间和在后台发送电子邮件时玩儿3D游戏。 这一设计还将使德州仪器获得针对竞争对手的制造优势,因为它将每块300毫米晶圆片上能够生产的芯片数量翻了一番。 在这次“超大规模集成电路技术讨论会”上,英特尔也公布了类似的高性能、低能耗处理器。英特尔计划在2010年生产采用了三栅极晶体管技术的处理器,在将速度提高45%的情况下将能耗降低35%。 二种设计采用了相同的技术方法,它们都是通过综合采用应力硅和low-k技术提高性能、降低能耗的。二种芯片也都采用CMOS制造工艺,但德州仪器的“单芯片系统”设计的特点在于能够在一个芯片上集成许多功能的能力。 德州仪器通过采用浸没光刻技术来提高晶体管密度,这种技术使得它能够将SRAM单元的大小减小到0.24平方微米,较竞争对手的相似产品小了30%。 德州仪器计划于2008年年中在其位于达拉斯的DMOS6工厂生产这种新处理器。 |
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