大日本印刷将在台湾新竹科学工业园区建设一家供生产65nm工艺LSI使用的曝光掩膜工厂。台湾“计划建设多家最新工艺的LSI制造厂，预计需求增长最大的将是65nm曝光掩膜”（大日本印刷）。新厂建成后，将能够向包括台湾在内的亚洲地区稳定供应曝光掩膜，同时还能缩短对台交货期。

　　大日本印刷目前共有包括日本（埼玉县上福冈工厂、京都府吉祥院工厂、神奈川县川崎工厂、岩手县北上工厂）和意大利（Agrate工厂）在内的5家工厂生产曝光掩膜。用来量产LSI的曝光掩膜大多都需要很短的交货期，从发出订单开始一般只有几天。从日本向台湾出口，光运输就需要2天左右，如能在台湾建设新厂，就能缩短运输日程。除此之外，还可迅速应对客户的问题。

　　新厂建成后将把4家日本工厂目前占9成的曝光掩膜生产比例降至6成，将台湾和意大利的生产比例分别提高至2成。台湾新厂主要负责向台湾及新加坡LSI制造厂提供65nm曝光掩膜。45nm等供研发领域使用的最尖端曝光掩膜则继续在日本生产。

　　台湾新厂将于2007年4月动工，2008年5月开工投产，计划于同年9月投入量产。前期投资约200亿日元。占地面积为2829平米，总建筑面积为9538平米。地下一层采用防微振结构，地上为4层。