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第38328篇:针对电子束直写光刻技术,富士通欲与Advantest成立合资公司

发布时间:2006年9月22日 点击次数:828
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      日本富士通(Fujitsu)和Advantest两家公司公司近日宣布计划成立合资公司,运用电子束直写光刻技术创建半导体模型。两家公司正在商讨正式合作的进程,计划在今年九月成立新公司。

       这家新公司将富士通(东京)的半导体前沿处理技术和Advantest(东京)开发制造的电子束曝光系统结合起来,开发应用在65nm、45nm处理技术中的电子束直写光刻技术。该合资公司运用开发的技术计划在2007年向客户提供一个新的65nm处理模型的开发环境,并使其适合于未来的45nm处理技术。

       合资公司计划在富士通工厂内设立总部,根据协议,富士通公司将持有其55%的股份,而爱德万公司持余下的45%的股份。

       Advantest公司涉足电子束市场已经好几年了,但是取得的成绩很少甚至没有进展。电子束市场被日立、JOEL、东芝、Vistec及以前知名的莱卡微系统这些巨头占领。目前许多公司像E-beam、佳能、Mapper等公司正开发高速直接写入的电子束工具。


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