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第36693篇:Entegris新型过滤产品可满足65nm/45nm工艺需求 |
| 发布时间:2006年11月12日 点击次数:487 |
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Entegris宣布推出其全新Intercept Plus HPM过滤产品。该公司表示,Intercept技术已获专利,是半导体产业中唯一采用双效微粒捕获技术的过滤器,能使微粒截除效果极大化,缩短工艺启动时间,改善工艺能力,并降低芯片缺陷。 该种甫发表可提高良率的技术,主要用于先进的HF及BOE(氢氟酸/缓冲氧化层蚀刻)工艺。Intercept Plus HPM技术所提供极其洁净的产品,适合用于以DHF为最后步骤的工艺,并且提供真正的亲水表面,从而消除其它需加压湿润的过滤器通常会出现的微小气泡。Intercept Plus HPM提供两款产品：滤心式与抛弃式。 Entegris表示,该技术是先进逻辑/闪存厂商,以及湿蚀刻与清洁机台制造商的理想选择,Intercept Plus HPM过滤器是同时采用滤除及物理吸附的双效微粒去除机制之次微米过滤器,可提供适合45nm工艺技术所需的过滤能力。这些过滤产品提供较一般产品多70%以上的滤膜面积,延长过滤器使用寿命,增加过滤循环槽周转率 。该技术最近通过认证,符合欧盟(EU)有害物质使用限制法规(EU RoHS)及欧盟包装指令有关成分要求。 |
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