应用于IC和纳米器件的等离子体蚀刻和淀积设备设计与制造商Tegal Corporation近期宣布，公司获得了两家日本领先公司关于Tegal 900系列等离子体蚀刻设备的订单。Tegal 900系列自发布以来，已经向全球半导体晶圆厂销售了1500套。

       Tegal 900系列蚀刻设备具有一个RF二极管等离子体发射源，可以为多种薄膜实现最佳蚀刻，并具有低成本优势。灵活的圆片自动处理系统、紧凑设备占用空间和广泛的制程使得900系列蚀刻设备广泛的应用于各种领域，包括硅CMOS、无源集成器件、MEMS器件和薄膜磁头制造。

       Tegal为先进半导体和纳米器件供应商提供制程和设备解决方案，公司对于蚀刻和淀积技术拥有35年先进研发经验和100项相关专利。